立式CVD系统
分类：管式炉案例 阅读： 次 时间：2025-09-11
案例简介
设备介绍：立式CVD系统采用刚玉炉管，可耐1600℃高温，立式结构占地小，功能强大，集成了高温反应室、固态材料气化室、多种气体高精度质量流量计、真空系统、冷却系统，整套设备可在真空/气氛保护环境下工作。
用户单位：重庆某研究所
设备名称：立式CVD系统
工作温度：≤1600℃
设备用途：用于TaC、HfC等物料及其复合碳化物等超高熔点涂层化学气相沉积制备工艺研究。
客户现场实拍图
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