2024/10/30
案例简介
客户名称：河南郑州某大学
设备名称：双温区滑道式CVD
工作温度：≤1100℃
设备用途：用于半导体、纳米材料、碳纤维、石墨烯等新材料、新工艺领域。
设备介绍
这款1100度双温区滑道CVD系统主要由管式炉、高真空分子泵真空系统、6路质量流量计供气系统及其它连接件等组成；炉底采用滑道设计，可以通过导轨左右滑动实现物料的快冷和快热；可同时连接6种气源，气体流量采用触屏6路质量流量控制器进行精确测量和控制。该高温CVD设备主要用于大学，研究中心和生产企业进行气相沉积相关的实验与生产。
双温区滑道式CVD客户现场实拍图
