2024/10/30
案例简介
客户单位：江苏某半导体材料公司
设备名称：PECVD
炉管材质：高纯石英
所通气氛：氮气
设备用途：用于碳纳米管生长。
设备优势
1.占地小功能强大，集成了加热、射频、精准质量流量计供气、精密气化、高真空系统。
2.射频电源可实现等离子增强从而显著降低实验温度，减少了高温对薄膜的损坏。
3.可根据射频电源的功率来进行控制薄膜的应力。
4.用石英管可直观看到等离子发光。
5.整套设备可在真空/气氛保护环境下工作。
6.触摸屏界面友好、实用，可显示和监控设备运行状态，可调用、编辑和存储烧结工艺，并具动态显示、历史数据可记录并导出功能。
PECVD客户现场实拍图
