真空烧结炉

碳化硅反应烧结炉


碳化硅反应烧结炉

工艺应用:碳化硅反应烧结炉主要应用于硬质合金、铜钨合金等金属以及由难熔炼金属组成的合金材料的真空烧结,以及陶瓷材料、碳化硅的高温烧结。

最高温度:≤1800℃

工作温度:

真空度:5Pa

温度均匀性:±5℃

温控精度:±1℃

可通气氛:

可编程段:

压升率:≤0.67pa/h

可选型号:

材质:

气路通道:

在线咨询客服18137195607

产品简介

       碳化硅反应烧结炉应用于硬质合金、铜钨合金等金属以及由难熔炼金属组成的合金材料的真空烧结,以及陶瓷材料、碳化硅的高温烧结。该设备的机构设计先进合理,设计及制造符合相应的国家及行业标准和规范能够满足用户的使用要求。其配套的产品和元器件具有国际先进水平,自能够适应长期、稳定、安全、可靠的生产需求,设备的节能效果良好。设备的使用、操作、维修方便简捷,造型美观,安全可靠,售后服务快速高效。


应用领域

       碳化硅反应烧结炉主要应用于硬质合金、铜钨合金等金属以及由难熔炼金属组成的合金材料的真空烧结,以及陶瓷材料、碳化硅的高温烧结。该真空烧结炉生产的复合陶瓷被广泛应用于军工防弹、锂电池类新能源、半导体、卫生及建筑陶瓷、化工、电厂和汽车等领域。


优势特点
  • 多种冷凝补集方式
  • 热效率高,温场均衡
  • 双级压力保护,安全可靠
  • 可定制一拖二结构

集成快速冷却,提高生产效率; 多种冷凝补集方式,延长真空泵寿命。有效减少了可凝性气体和杂质对真空泵内部组件的侵蚀与污染,降低了设备的磨损和故障率。

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加热元件布置合理,辐射面积大,优化的加热室结构,升温快,保温效果好,节能降耗

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双级压力保护,适应不同压力异常情况,降低了因单一保护装置失效而导致安全事故的风险,提高了整个系统的可靠性和稳定性。 

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可制定一拖二结构,可以利用两个炉体同时进行不同工艺参数或不同材料的实验研究,提高科研效率和数据的对比性。更省空间,减少投入成本。

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技术参数


型号

有效加热区尺寸

宽*高*深(mm)

最高温度(℃)极限真空度(pa)温度均匀性(℃)压升率(pa/h)装载量 (kg)

HL-V1800-936W

600*600*2600

1800

5

±5

0.67600

HL-V1800-1260W

600*600*3500

1800

5

±50.67800

HL-V1800-1470W

700*700*3000

1800

5

±50.671000

HL-V1800-1960W

700*700*4000

1800

5

±50.671200

HL-V1800-2200W

700*700*4500

1800

5

±50.671500


以上参数可根据工艺要求进行调整,不作为验收依据,具体以技术方案和协议为准。


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