
钛合金烧结炉最高温度:1500℃
真 空 度:≤6.67X10⁻³Pa
工艺应用:用于钛合金、硬质合金等金属材料的烧结。
氧化物陶瓷烧结炉最高温度:1800℃
真 空 度:≤10⁻³Pa
工艺应用:用于氧化物及其他陶瓷粉体和制品的烧结。
碳化硅反应烧结炉最高温度:1800℃
真 空 度:5Pa
工艺应用:专为碳化硅(SiC)陶瓷及其复合材料设计的真空烧结设备。
低真空热压炉最高温度:1100℃
真 空 度:0.1MPa
工艺应用:用于粉末冶金行业,陶瓷行业的成型与烧结工艺。
真空热压炉(真空扩散焊炉)最高温度:2000℃
真 空 度:≤6.67X10⁻³Pa
工艺应用:用于金属材料的热压成型、扩散连接、粉末锻造等。
实验小型箱式炉最高温度:1700℃
真 空 度:无
工艺应用:用于样品灰化、炭化、烧结,以及小型金属件的退火、回火等工艺。
中大型箱式炉最高温度:1700℃
真 空 度:无
工艺应用:用于材料合成、煅烧、烧结及金属退火、回火等热处理。
箱式排胶炉最高温度:1700℃
真 空 度:无
工艺应用:用于陶瓷材料、磁性材料等排胶工艺以及金属材料的预烧结。
箱式淬火炉最高温度:1300℃
真 空 度:无
工艺应用:用于金属材料的淬火热处理,以及材料导热性测试等。